反应离子刻蚀,离子束刻蚀

等离子刻蚀工艺原理介绍(共26页【免费阅读】
离子源为镓离子,离子束能量设定为30kv,最小刻蚀电流为1pa,最小分辨率
rie反应离子刻蚀机
探讨半导体制造原子层刻蚀与沉积工艺的自限性反应
技术 一种对金刚石进行快速精密刻蚀的技术 深反应离子刻蚀