各向异性刻蚀,

光电化学刻蚀
中科院物理所率先实现基于石墨烯的各向异性刻蚀技术
用氧等离子体进行离子增强的各向异性刻蚀可以实现光刻胶表面成像
各向同性刻蚀
《炬丰科技-半导体工艺》x射线相衬成像的各向异性硅蚀刻