极紫外光刻技术,

光刻胶是极紫外光刻机突破3纳米的最大绊脚石全新材料开发已箭在弦上
5nm波长的极紫外光都有较强的吸收,因此极紫外光刻的掩模是反射式的.
极紫外光作为光源的光刻 a target"_blank href/item/技术
光刻技术紫外极紫外光刻光学集成电路09-16光子器件研究光学研究科研
紫外光刻