极紫外光刻技术,

samsung 极紫外光刻 7nm 制程技术已完成
extreme ultraviolet 极紫外光刻(euv)是下一代光刻主流技术.
阿斯麦nxe3400极紫外光刻机内部结构 图片来源:公司官网
2017年,长春光机所承担的国家科技重大专项项目"极紫外光刻关键技术
7nm n7 工艺,这是台积电第一次,也是行业第一次量产euv极紫外光刻技术