极紫外光刻机,极紫外光

单面紫外光刻机
第4022回:极紫外微影光刻机,阿斯麦半导体蚀刻
euv极紫外光刻机就是制程突破10nm及之后的7nm,5nm工艺的关键.
阿斯麦预计2025年极紫外光刻机应用比例将超过60
极紫外光刻机想要突破3纳米,需要开发全新的材料