磁控溅射原理,磁控溅射

磁控溅射原理chromeline设备整个pvd真空镀膜工艺生产中不产生污水,又
磁控溅射原理详细介绍.ppt
2 磁控溅射sio2装置图
为了增加rf溅射效率,一般在溅射靶材背面加上磁铁,称为射频磁控溅射.
磁控溅射原理 为了提高离化率,增加溅射沉积的速率,在靶背面增加磁