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中国的光刻机目前处于什么水平
60岁回国创业,耗时11年造出5nm光刻机,让中国设备领先全球
5nm光刻机来之不易,asml耗时20年,华为芯片困局难解
不需要5nm光刻机?碳基芯片迎来新突破,性能超硅基芯片10倍
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